- Fotoschablone
- f трафарет м., изготовленный фотомеханическим способом
Neue große deutsch-russische Wörterbuch Polytechnic. 2014.
Fotoschablone
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positive Fotoschablone — pozityvinė fotokaukė statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. positive photomask; positive phototool vok. positive Fotoschablone, f rus. позитивная фотомаска, f; позитивный фотошаблон, m pranc. photomasque positif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Fotolack — Fotolacke (englisch photoresist) werden bei der fotolithografischen Strukturierung verwendet, insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich sowie bei der… … Deutsch Wikipedia
Fotoresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Handsatz — Setzkasten für die DIN Belegung Bleibuchstaben im Winkelhaken beim Handsatz … Deutsch Wikipedia
Negativresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Photolack — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Photoresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Positivresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Resist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
photomasque positif — pozityvinė fotokaukė statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. positive photomask; positive phototool vok. positive Fotoschablone, f rus. позитивная фотомаска, f; позитивный фотошаблон, m pranc. photomasque positif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
positive photomask — pozityvinė fotokaukė statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. positive photomask; positive phototool vok. positive Fotoschablone, f rus. позитивная фотомаска, f; позитивный фотошаблон, m pranc. photomasque positif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
